CKD Technologyk makina berriak ez ditu soilik stockean, berehala eskuragarri.
Alokairu negozio zehatza ere badugu, zure produkzio-eskakizun zehatzak betetzeko prest zure hasierako inbertsioa nabarmen murrizten duen bitartean. Jarri gurekin harremanetan xehetasun gehiago lortzeko.
CKD-k ingeniari profesionalen talde bat du, giltza eskuan zerbitzua emateko prest.
Erabilitako makinen salmentarako, jar zaitez gurekin harremanetan whatspp edo posta elektroniko bidez.
---------------------------------------------------------------------------------------
MYL10 plasma sistemak errendimendu handiko gainazaleko tratamendua lortzen du berunezko markoetarako.
• Presio atmosferikoko argon plasma sistema
• 100 mm-ko zabalera lineako loteen plasma prozesatzea; 2-5 aldiz eraginkortasun handiagoa eta % 30 baino gehiago funtzionamendu kostu txikiagoak eskaintzen ditu metodo tradizionalekin alderatuta; 1.800 UPH-ko gehienezko errendimendua
• Ekoizpen handiko eta malgutasun handiko ekoizpena: hainbat tamainatako berunezko markoak prozesatzeko gai da, tamaina ezberdinetako aldibereko prozesatzea barne.
• Plasma % 100 neutroa: osagai elektroniko sentikorretan segurua eta leuna; Ez du plasma bonbardaketarik sortzen, elektrizitate estatikorik, txinpartak, arkuak, hautsa, bero handia, gainazaleko uhinak edo UV erradiaziorik, produktuari kalterik ez izatea bermatuz.
• Prozesu kimiko anitz: O2 prozesuak kutsatzaile organikoak kentzen ditu; H2 prozesuak metal oxidoak kentzen ditu eta produktuen gainazalak aktibatzen ditu
• Produktuan ez da partikularik edo likido kutsadurarik sortu
| Oinarrizko Parametroak | MYL10 |
| Potentzia-eskakizunak | AC 200~240V, 5kW, 23A, 50/60Hz |
| Airearen presioaren eskakizunak | 90 psi (6 bar) |
| Neurriak | 1500 x 2100 x 2100 mm |
| Pisua | 2500 kg |
| Ziurtagiri-arauak | CE, SEMI S2 |
| Kokapen-zehaztasuna | XY: ±20 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| XYZ-Ardatzaren Errepikagarritasuna | XY: ±15 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Gehienezko Abiadura | 1000 mm/s (XY) |
| Azelerazioa | 1,0 g |
| Drive Sistema | AC serboa |
| Lan-plataformaren parametroak | |
| Trenbide Mota | Trenbidea |
| Errail kopurua | 4 |
| Produktuaren lodiera sorta | 0,1-1 mm |
| Z-ardatzaren bidaia | 100 mm |
| Max. Errendimendua (UPH) | 1800 |
| Komunikazio Protokoloa | SMEMA |
| Lan-eremua | |
| Plasma tratatzeko eremua (W×D) | 300-1320 mm |
| Plasma tratatzeko metodoa | Kutsatzaile organikoak kentzeko O2 prozesua Metal oxidoak kentzeko H2 prozesua |
| Plasma-sistemaren baldintzak | |
| RF potentzia | 600 W 27,12 MHz-tan |
| Plasma-gas nagusia | Argona |
| Prozesuko gasa | O2, N2 edo H2 |
| Gas horniduraren presio-tartea | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Helbidea
5. solairua, 2. eraikina, 182. zenbakia, Chang'an Xi'an errepidea, Chang'an herria, Dongguan, Guangdong probintzia, Txina.
Tel
Posta elektronikoa
